金属材料;冶金;铸造;磨削;抛光设备的制造及处理,应用技术
  • 一种在金属锌上沉积氧化锌薄膜的方法与流程
    本发明涉及金属表面沉积氧化锌薄膜的领域,尤其涉及在金属锌上沉积氧化锌薄膜的方法。氧化锌是一种宽禁带(3.3eV)金属氧化物半导体材料,且具有优异的生物相容性、生物可降解性、可见光波段透明性以及高电子迁移率等众多优点。氧化锌薄膜中存在锌间隙和氧空穴等晶体缺陷,是一种n型半导体,在光电器件、传...
  • 一种改善气体分布的沉积室及MPCVD装置的制作方法
    本发明属于微波等离子体化学气相沉积,具体涉及一种改善气体分布的沉积室及MPCVD装置。微波等离子体化学气相沉积(Microwaveplasmachemicalvapordeposition)简称MPCVD,是将微波发生器产生的微波用波导管经隔离器进入沉积室,激励沉积室中的气...
  • 一种波导组件及微波等离子体化学气相沉积装置的制作方法
    本发明涉及微波等离子体化学气相沉积,尤其涉及一种波导组件及微波等离子体化学气相沉积装置。微波等离子体化学气相沉积(Microwaveplasmachemicalvapordeposition)简称MPCVD,是制备高质量金刚石制品最有效的方法,现已成为高速度、大面积、高质量...
  • 菱形硅片载片舟的冷却装置的制作方法
    本发明涉及一种菱形硅片载片舟的冷却装置。在低压化学气相沉积镀膜中,先将工件放置在载片舟上,载片舟的支撑结构一般为多杆框架结构,并且设置若干放置工件的工位,行业内菱形硅片放置载片舟上时,需要竖直摆放,再将载片舟连通工件一起放入真空管式炉(即LPCVD),沉积物在沉积到工件表面,完成镀膜作业,...
  • 一种特征尺寸可调控周期性纳米线宽样板及其制备方法与流程
    本发明属于纳米线宽样板领域,具体涉及一种特征尺寸可调控周期性纳米线宽样板及其制备方法。迄今为止,研究人员们开发了众多制作纳米线宽样板的方法;这些技术加工的线宽样板尺寸大都在几十纳米到几微米的范围内。例如:紫外线光刻法、X射线光刻或同步辐射均可以制作纳米级光栅线宽样板,但是,这些方法也都存在...
  • 一种原位生长CNT层增强轻质合金胶接界面强度的方法与流程
    本发明涉及航空轻质合金胶接,特别涉及一种原位生长CNT层增强轻质合金胶接界面强度的方法。随着科学技术的进步,铝合金、钛合金、镁合金、铝锂合金等轻质合金材料在航空航天领域越来越广泛;各种轻质合金构件的连接技术也愈发受到关注。铆接、栓接等传统的机械紧固连接技术尽管可以提供足够的连接强度...
  • 一种等离子化学气相沉积金属基材表面纳米膜的制备方法与流程
    本发明涉及等离子增强化学气相沉积镀膜,尤其涉及一种等离子化学气相沉积金属基材表面纳米膜的制备方法。金属基材产品表面一般经过阳极氧化等工艺处理,在其表面会形成一层金属氧化物保护膜,该保护膜在一定程度上会起到保护金属基底免受外界水汽等物质的侵蚀,具有一定的耐腐蚀性。但由于生产过程中,往...
  • 膜厚监测装置及薄膜沉积设备的制作方法
    本发明涉及显示,特别是涉及一种膜厚监测装置及薄膜沉积设备。膜厚监测装置是薄膜沉积设备中的重要系统,目前已有的膜厚监测装置可自动更换其晶振片,而无需中断过程;其中晶振片即为传感器。晶振片不稳定或失效时,其中的控制器会立即发送旋转信号,要求更换晶振片并将新晶振片旋转到位,从而实现持续沉...
  • 一种高反射率层的制备方法以及反射结构与流程
    本发明涉及反射膜的制备,尤其涉及一种高反射率层的制备方法以及反射结构。反射膜一般分为两类,一类是金属反射膜,一类是全电介质反射膜。银膜作为常见的金属反射膜,在可见区以及红外区波段内,具有高于一切已知材料的反射率。银反射膜的镀膜材料一般为银或银合金,膜层可以是单层或多层结构。银膜可以设置在如...
  • 一种高散热的旋转阴极的制作方法
    本发明涉及一种高散热的旋转阴极。旋转靶材的磁控溅射被广泛地用于在基片上制作各种不同的薄膜。在磁控溅射中,待溅射的材料以圆柱形的形状形成或被粘附到由刚性材料制成的圆柱形支撑管的外表面。磁控管总成被安置在管内并供应磁通量,磁通量穿过靶材,使得在靶材的外表面存在大量磁通量。磁场以一种方式设计,使...
  • 一种热电堆热流传感器及其制作工艺的制作方法
    本发明涉及温度传感器,具体涉及一种热电堆热流传感器及其制作工艺。热电堆热流传感器是将热电偶电势信号进行累积叠加放大,提高传感器的分辨率、提高测量精度和减小对检测仪表的要求。目前市场上的热电堆热流传感器主要采用K型偶丝串联,但受限于偶丝加工直径以及后续加工手段的影响,在有效面积内很难...
  • 半导体加工腔室及半导体加工设备的制作方法
    本申请涉及半导体加工,具体而言,本申请涉及一种半导体加工腔室及半导体加工设备。磁控溅射又称为物理气相沉积,是集成电路制造过程中沉积金属层和相关材料广泛采用的方法。一般说来,磁控溅射是在晶圆上沉积薄膜材料,尤其是沉积铝金属互连线。然而近些年来,用垂直互连技术在高深宽比的通孔中沉积电介...
  • 高通量薄膜沉积设备及薄膜沉积方法与流程
    本发明属于气相沉积,特别是涉及一种高通量薄膜沉积设备及薄膜沉积方法。一个二元系材料AxB1-x(其中x为元素A的成分比例),如果选择x从0到1的10种成分组合,则可以基本获得材料AxB1-x的性能。如果是一个三元系的材料AxByC1-x-y,如果要比较全面的研究,需要x,y各自独立...
  • 基于超薄四面体碳膜修饰Al纳米结构的表面增强拉曼衬底及其制备方法与流程
    本发明属于纳米材料,具体涉及一种基于超薄四面体碳膜修饰Al纳米结构的表面增强拉曼衬底及其制备方法。表面增强拉曼光谱(SERS)技术在生物医学等领域都有着广泛的应用。相对于其它测量手段,拉曼探测具有分子识别和指纹性质,且对水溶液不敏感,对生物分子的探测尤其有用。但拉曼光谱的缺点是信号...
  • 蒸镀用基板及其制造方法、蒸镀方法与流程
    本发明涉及显示面板制造,尤其涉及一种蒸镀用基板及其制造方法、蒸镀方法。OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)显示装置因其自发光、高对比度、高色域、宽视角、结构轻薄以及兼容柔性等特点,越来越受到显示业界关注和青睐。在OLED显示面板的制造...
  • 一种真空镀膜机用密封圈镀膜工装及镀膜方法与流程
    本发明属于真空镀膜,具体涉及一种真空镀膜机用密封圈镀膜工装及镀膜方法。类金刚石薄膜是一种高硬度和低摩擦系数的非晶碳薄膜,并能阻止外界气体、液体等杂质侵入,形成耐磨保护层,可以显著增强密封件的耐磨性。利用真空镀膜技术在密封圈上沉积类金刚石薄膜,可以得到摩擦系数低、抗冲击性强的...
  • 蒸镀掩模及其前体、以及有机半导体元件的制造方法与流程
    本发明涉及蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、蒸镀掩模前体、及有机半导体元件的制造方法。随着使用有机EL元件的产品的大型化或基板尺寸的大型化,对蒸镀掩模大型化的要求也不断增加。而且,用于制造由金属构成的蒸镀掩模的金属板也大型化。然而,在当前的金属加工技术中,难以在大型的金属板上高精度地形成...
  • 蒸镀掩模的制造方法与流程
    而申请号为201711266191.6的发明专利申请又是申请号为201480003445.3(国际申请号为PCT/JP2014/050345)、国际申请日为2014年01月10日、发明名称为“金属板、金属板的制造方法、和使用金属板制造蒸镀掩模的方法”的发明专利申请的分案申请。本发明涉及通过...
  • 检测装置、蒸镀系统及检测方法与流程
    本发明属于显示,尤其涉及检测装置、蒸镀系统及检测方法。显示面板的基板的蒸镀通常在真空的蒸镀腔室内进行,在蒸镀过程中,需要通过磁板将待蒸镀基板和掩膜板进行对位压合,若基板贴合磁板的表面不平整,会影响压合效果,进而影响待蒸镀基板的蒸镀效果,最终影响显示显示面板的显示效果。因此,对待蒸镀...
  • 一种掺杂Cr的DLC涂层的制备方法与流程
    本发明属于涂层材料,具体涉及一种掺杂Cr的DLC涂层的制备方法。物理气相沉积技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。申请号为“201210423...
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